Sistema di deposizione chimica in fase vapore (CVD)

The funzione: La funzione del sistema di deposizione chimica da vapore è depositare film sottili sul substrato, migliorare le proprietà del materiale, produrre dispositivi funzionali, ottenere modifiche superficiali, controllare con precisione lo spessore dei film sottili, migliorare la qualità del prodotto, assistere nella ricerca e sviluppo di nuovi materiali ed essere utilizzato nella produzione di circuiti integrati, ecc., con i vantaggi di un'elevata controllabilità del processo, capace di produzione su larga scala e possibilmente di costi inferiori.

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