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The funzione:
La funzione del sistema di deposizione chimica da vapore è depositare film sottili sul substrato, migliorare le proprietà del materiale, produrre dispositivi funzionali, ottenere modifiche superficiali, controllare con precisione lo spessore dei film sottili, migliorare la qualità del prodotto, assistere nella ricerca e sviluppo di nuovi materiali ed essere utilizzato nella produzione di circuiti integrati, ecc., con i vantaggi di un'elevata controllabilità del processo, capace di produzione su larga scala e possibilmente di costi inferiori.
Certificazione :
Calibration Certificate(cost additional)Prezzo :
NegotiableTempo di consegna :
30 daysTermini di pagamento :
L/C, T/TMarchio :
HCTENumero di modello :
HCTE-VCM-003Ambito di applicazione:
Deposizione di film sottile nell'industria dei chip semiconduttori, nel solare fotovoltaico, nei LED e in altri settori.
Caratteristiche del prodotto:
Campo di distribuzione e flusso del gas appositamente progettato e sistema di controllo automatico della pressione di reazione. Garantire l'uniformità e la stabilità della deposizione, per soddisfare i requisiti dello strato attivo e dello strato di passivazione per il basso difetto del film sottile e una buona interfaccia.
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E-mail : sales@isoautotest.com
