Unità di pompa molecolare ad alto vuoto tubolare a tre vie Iso3666 Portata della pompa molecolare 600 l/s Pressione massima ≤1,5×10⁻⁵Pa

Unità di pompa molecolare ad alto vuoto tubolare a tre vie Iso3666 Portata della pompa molecolare 600 l/s Pressione massima ≤1,5×10⁻⁵Pa

Introduzione al prodotto

In quanto apparecchiatura di base per l'ingegneria del vuoto e la lavorazione ad alta temperatura, VET-004 supera i tradizionali limiti delle singole stazioni e adotta un design a tre vie in parallelo: ogni forno tubolare ha un diametro di φ120 mm e può essere controllato indipendentemente dalla temperatura (temperatura ambiente - 1200 °C). È dotato di una pompa molecolare da 600 l/s e di una pompa rotativa a palette da 9 l/s per raggiungere rapidamente il vuoto dalla pressione atmosferica a un livello di 10⁻⁵Pa entro 30 minuti. L'apparecchiatura supporta il monitoraggio in tempo reale di diversi parametri, come grado di vuoto, temperatura e flusso di gas, e dispone di un sistema di collegamento intelligente integrato. Quando il grado di vuoto è inferiore alla soglia, il meccanismo di protezione si attiva automaticamente per garantire la stabilità e la ripetibilità delle reazioni dei materiali in ambienti ad alta temperatura. È la scelta ideale per laboratori universitari, centri di ricerca e sviluppo aziendali e linee di produzione di precisione.

Caratteristiche del prodotto

Elaborazione parallela a tre vie: controllo indipendente di forni tubolari a tre vie, supporto del funzionamento simultaneo di processi con diverse temperature e gradi di vuoto e aumento dell'efficienza del 300%.

Prestazioni di vuoto ultra-elevato: scarico combinato di pompa molecolare + pompa rotativa a palette, pressione massima ≤1,5×10⁻⁵Pa, che soddisfa i rigorosi requisiti di vuoto per la deposizione di film sottili, la crescita dei cristalli, ecc.

Controllo preciso della temperatura: ogni forno tubolare è dotato di un regolatore di temperatura intelligente PID, con una precisione di controllo della temperatura di ±1℃ e supporta l'impostazione libera della velocità di riscaldamento di 0-20℃/min.

Design modulare: la pompa molecolare e la pompa rotativa a palette possono essere smontate per la manutenzione, mentre il tubo del forno tubolare può essere sostituito rapidamente, riducendo i tempi di fermo e i costi di manutenzione.

Sistema di protezione di sicurezza: allarme di sovraccarico per alta temperatura, arresto in caso di perdite di vuoto e design antiscottatura della struttura del forno per garantire la sicurezza operativa.

Adattamento multi-sorgente di gas: è riservata l'interfaccia di ingresso dell'aria a 3 vie (supporta argon, azoto, idrogeno, ecc.), compatibile con il misuratore di portata di massa MFC per un controllo accurato del flusso di gas.

Standard di riferimento internazionale

ISO 3666:2015 "Tecnologia del vuoto - Vacuometro - Parametri di prestazione e metodi di calibrazione": la calibrazione di precisione dei sensori del vuoto soddisfa gli standard internazionali per garantire l'affidabilità dei dati di pressione.

ASTM E2149-13 "Metodo di prova per la velocità di degassamento dei materiali in condizioni di vuoto dinamico": supporta la funzione di rilevamento della velocità di degassamento dei materiali e soddisfa i requisiti dei test di compatibilità del vuoto dei materiali aerospaziali.

IEC 61010-1:2010 "Requisiti di sicurezza per apparecchiature elettriche di misura, controllo e uso in laboratorio": l'impianto elettrico ha superato la certificazione di protezione da sovraccarico e di rilevamento di guasti a terra ed è conforme alle normative di sicurezza di laboratorio.

GB/T 16800-2012 "Tecnologia del vuoto - Flangia per vuoto ultra elevato": l'interfaccia della tubazione adotta la flangia per vuoto ultra elevato CF35 e le prestazioni di tenuta raggiungono un livello di perdita di 10⁻⁹Pa・m³/s.

Utilizzo del prodotto

Ricerca sulla scienza dei materiali: crescita di nanotubi di carbonio, deposizione di film di grafene, ricottura sotto vuoto di leghe metalliche

Produzione di semiconduttori: essiccazione sotto vuoto a livello di wafer, degasaggio dei chip LED prima del confezionamento

Nuovo campo energetico: sinterizzazione del materiale degli elettrodi delle batterie al litio, sintesi sotto vuoto dell'elettrolita delle batterie allo stato solido

Analisi e test: valutazione dell'attività del catalizzatore (test di adsorbimento/desorbimento del gas in ambiente sotto vuoto)

Università e istituti di ricerca: esperimento di confronto multi-stazione, insegnamento di simulazione di ambienti sotto vuoto ad alta temperatura

Parametri tecnici

Oggetti di prova ed elementi di prova

Oggetti di prova

Rivestimento del forno tubolare e componenti di tenuta

Wafer semiconduttori, wafer di silicio fotovoltaico, substrati ceramici

Materiali in nanopolvere (come l'ossido di grafene, strutture organiche metalliche MOF)

Campioni di leghe ad alta temperatura, campioni di materiali superconduttori

Elementi di prova

Tempo di instaurazione del vuoto: tempo necessario per pompare dalla pressione atmosferica a 10⁻³Pa/10⁻⁵Pa

Uniformità della temperatura: distribuzione assiale della temperatura del forno tubolare (è qualificata entro ±5℃)

Velocità di degasaggio del materiale: volume di degasaggio per unità di area del campione in ambiente sotto vuoto ad alta temperatura

Affidabilità della tenuta: tasso di perdita sulla connessione della flangia CF (≤1×10⁻⁹Pa・m³/s)

Efficienza della pompa molecolare: test di stabilità della velocità di pompaggio in diversi intervalli di vuoto (sezione a basso/alto vuoto)